【專利讓與及授權】國科會計畫產出專利公告(1件)-1150727

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技術名稱

專利證書號

摘要

專利期

1

含鐵離子之低能隙共軛高分子複合材料及其製備方法

I595021

本發明為一種含鐵離子之低能隙共軛高分子複合材料及其製備方法，含鐵離子之低能隙共軛高分子複合材料包含共軛高分子以及三價鐵離子，其中共軛高分子包含一離子辨識基團，而離子辨識基團具有未與金屬結合的配位基空位，會與具有形狀相同之三價鐵離子互相結合。含鐵離子之低能隙共軛高分子複合材料其製備方法包含聚合反應處理、溶解反應、緩慢加入氯化鐵溶液、螯合現象以及形成複合材料。本發明藉由在共軛高分子中加入三價鐵離子，可以大幅降低共軛高分子之能隙。

2017/08/11-2036/03/31